《激光應(yīng)用雜志》(Journal Of Laser Applications)是一本以光學(xué)-物理綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Laser Institute of America出版商創(chuàng)刊于1988年，刊期Quarterly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦光學(xué)-物理領(lǐng)域的重點研究和前沿進(jìn)展，及時刊載和報道該領(lǐng)域的研究成果，致力于成為該領(lǐng)域同行進(jìn)行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為1.7。CiteScore指數(shù)值為3.6。
The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety.
The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:
High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers
Laser Additive Manufacturing
High Power Materials Processing with High Brightness Lasers
Emerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures
Surface Modification
Lasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology
Spectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements
Laser Systems and Markets
Medical Applications & Safety
Thermal Transportation
Nanomaterials and Nanoprocessing
Laser applications in Microelectronics.
《激光應(yīng)用雜志》（JLA）是美國激光研究所（LIA）的科學(xué)平臺，與 AIP 出版社合作出版。其高質(zhì)量文章涵蓋從基礎(chǔ)和應(yīng)用研究與開發(fā)到工業(yè)應(yīng)用的廣泛領(lǐng)域。因此，JLA 反映了光子生產(chǎn)、傳感和測量以及激光安全領(lǐng)域的研發(fā)現(xiàn)狀。
以下國際知名的一流科學(xué)家在 9 個新類別中擔(dān)任指定編輯：
使用超快激光器進(jìn)行高精度材料加工
激光增材制造
使用高亮度激光器進(jìn)行高功率材料加工
激光技術(shù)在高性能/多功能材料和結(jié)構(gòu)中的新興應(yīng)用
表面改性
納米制造/納米光子學(xué)和薄膜技術(shù)中的激光器
光譜/成像/診斷/測量
激光系統(tǒng)和市場
醫(yī)療應(yīng)用和安全
熱傳輸
納米材料和納米加工
激光應(yīng)用在微電子領(lǐng)域。
《Journal Of Laser Applications》(激光應(yīng)用雜志)編輯部通訊方式為LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù)，您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年，熟悉發(fā)表政策，可為您提供一對一投稿指導(dǎo)，避免您在投稿時頻繁碰壁，節(jié)省您的寶貴時間，有效提升發(fā)表機率，確保SCI檢索（檢索不了全額退款）。我們視信譽為生命，多方面確保文章安全保密，在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。
2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
基礎(chǔ)版：即2019年12月17日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心期刊分區(qū)表》；將JCR中所有期刊分為13個大類，期刊范圍只有SCI期刊。
升級版：即2020年1月13日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心期刊分區(qū)表升級版（試行）》，升級版采用了改進(jìn)后的指標(biāo)方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn)，影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素，也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個學(xué)科擴展至18個，科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始，分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果，不再有基礎(chǔ)版和升級版之分，基礎(chǔ)版和升級版（試行）將過渡共存三年時間。
JCR分區(qū)等級：Q3
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 321 / 438 |
26.8% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 73 / 119 |
39.1% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 125 / 179 |
30.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 267 / 438 |
39.16% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 75 / 120 |
37.92% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 111 / 179 |
38.27% |
| Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | 文章自引率 |
| 17.18% | 96.99% | 0.09... |
| 開源占比 | 出版國人文章占比 | OA被引用占比 |
| 0.09... | - | 0.05... |
名詞解釋：JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細(xì)致劃分，JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置，從而幫助科研人員準(zhǔn)確識別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||||||||||||||
| 3.6 | 0.422 | 0.803 |
|
名詞解釋：CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus，適用于所有連續(xù)出版物，而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊，比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認(rèn)為是影響因子最有力的競爭對手。
歷年中科院分區(qū)趨勢圖
歷年IF值(影響因子)
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量
歷年自引數(shù)據(jù)
2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| High efficiency femtosecond laser ablati... | 12 |
| Microstructure evolution during selectiv... | 12 |
| Direct measurements of laser absorptivit... | 10 |
| Toward application of hierarchical struc... | 9 |
| Nanostructuring of laser textured surfac... | 9 |
| Comparative study between CW and PW emis... | 8 |
| Comparative study of stainless steel AIS... | 7 |
| Experimental and theoretical investigati... | 6 |
| Estimation of melt pool size by compleme... | 6 |
| Wettability transition modes of aluminum... | 6 |
2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J LASER APPL | 167 |
| OPT LASER TECHNOL | 87 |
| INT J ADV MANUF TECH | 81 |
| MATERIALS | 62 |
| J MANUF PROCESS | 54 |
| J MATER PROCESS TECH | 54 |
| APPL SURF SCI | 47 |
| INT J HEAT MASS TRAN | 42 |
| ADDIT MANUF | 37 |
| METALS-BASEL | 31 |
2019-2021年引用數(shù)據(jù)
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J LASER APPL | 167 |
| APPL SURF SCI | 123 |
| J MATER PROCESS TECH | 121 |
| OPT LASER TECHNOL | 85 |
| MATER DESIGN | 76 |
| INT J ADV MANUF TECH | 71 |
| MAT SCI ENG A-STRUCT | 62 |
| J APPL PHYS | 54 |
| APPL PHYS A-MATER | 52 |
| J PHYS D APPL PHYS | 52 |
中科院分區(qū)：4區(qū)
影響因子：1.5
審稿周期：
中科院分區(qū)：4區(qū)
影響因子：1.5
審稿周期： 12周，或約稿
中科院分區(qū)：4區(qū)
影響因子：0.5
審稿周期：
中科院分區(qū)：4區(qū)
影響因子：2.2
審稿周期： 12周，或約稿
中科院分區(qū)：4區(qū)
影響因子：0.4
審稿周期：
中科院分區(qū)：4區(qū)
影響因子：0.9
審稿周期：
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826。
