《等離子化學和等離子處理》(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本以工程技術(shù)-工程:化工綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Springer US出版商創(chuàng)刊于1981年,刊期Quarterly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-工程:化工領(lǐng)域的重點研究和前沿進展,及時刊載和報道該領(lǐng)域的研究成果,致力于成為該領(lǐng)域同行進行快速學術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為2.6。CiteScore指數(shù)值為5.9。
Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.
本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學和等離子體處理基礎(chǔ)和應用研究的原創(chuàng)論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應用(包括等離子體醫(yī)學和農(nóng)業(yè))、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關(guān)的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》(等離子化學和等離子處理)編輯部通訊方式為SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務,您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務十年,熟悉發(fā)表政策,可為您提供一對一投稿指導,避免您在投稿時頻繁碰壁,節(jié)省您的寶貴時間,有效提升發(fā)表機率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。
2023年12月升級版
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物理與天體物理 | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
2022年12月升級版
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工程技術(shù) | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月舊的升級版
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工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月基礎(chǔ)版
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工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月升級版
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
2020年12月舊的升級版
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
基礎(chǔ)版:即2019年12月17日,正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表》;將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。
升級版:即2020年1月13日,正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表升級版(試行)》,升級版采用了改進后的指標方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進,影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素,也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個學科擴展至18個,科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始,分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果,不再有基礎(chǔ)版和升級版之分,基礎(chǔ)版和升級版(試行)將過渡共存三年時間。
JCR分區(qū)等級:Q2
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | 文章自引率 |
14.18% | 95.12% | 0.08... |
開源占比 | 出版國人文章占比 | OA被引用占比 |
0.09... | 0.18 | 0.08... |
名詞解釋:JCR分區(qū)在學術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導以及學術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細致劃分,JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置,從而幫助科研人員準確識別出高質(zhì)量的學術(shù)期刊。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||||||||||||||
5.9 | 0.48 | 0.912 |
|
名詞解釋:CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus,適用于所有連續(xù)出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認為是影響因子最有力的競爭對手。
歷年中科院分區(qū)趨勢圖
歷年IF值(影響因子)
歷年引文指標和發(fā)文量
歷年自引數(shù)據(jù)
2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
CHINA MAINLAND | 70 |
Russia | 37 |
USA | 29 |
France | 26 |
GERMANY (FED REP GER) | 21 |
Czech Republic | 15 |
Iran | 14 |
India | 12 |
Japan | 12 |
Poland | 11 |
2019-2021年機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計
機構(gòu) | 數(shù)量 |
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 24 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF... | 21 |
CZECH ACADEMY OF SCIENCES | 10 |
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY | 10 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 9 |
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 9 |
COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA | 7 |
IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & ... | 7 |
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA | 7 |
KOREA UNIVERSITY | 6 |
2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)
文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
Effect of Cold Atmospheric Pressure Plas... | 23 |
Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Ind... | 14 |
Inactivation of Shewanella putrefaciens ... | 13 |
Seed Priming with Non-thermal Plasma Mod... | 13 |
Stimulation of the Germination and Early... | 12 |
Evaluation of Oxidative Species in Gaseo... | 12 |
Non-thermal Plasma Induced Expression of... | 11 |
Effect of the Magnetic Field on the Magn... | 9 |
On the Possibilities of Straightforward ... | 8 |
Plasma Activated Organic Fertilizer | 8 |
2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)
被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
PLASMA CHEM PLASMA P | 289 |
J PHYS D APPL PHYS | 241 |
IEEE T PLASMA SCI | 106 |
PLASMA SCI TECHNOL | 95 |
CHEM ENG J | 92 |
PLASMA SOURCES SCI T | 82 |
PLASMA PROCESS POLYM | 79 |
PHYS PLASMAS | 48 |
SURF COAT TECH | 46 |
J APPL PHYS | 39 |
2019-2021年引用數(shù)據(jù)
引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
J PHYS D APPL PHYS | 308 |
PLASMA CHEM PLASMA P | 289 |
PLASMA SOURCES SCI T | 186 |
IEEE T PLASMA SCI | 101 |
PLASMA PROCESS POLYM | 97 |
J APPL PHYS | 74 |
CHEM ENG J | 69 |
APPL PHYS LETT | 64 |
APPL CATAL B-ENVIRON | 58 |
J CHEM PHYS | 53 |
中科院分區(qū):3區(qū)
影響因子:2.7
審稿周期:
中科院分區(qū):3區(qū)
影響因子:2.6
審稿周期: 14 Weeks
中科院分區(qū):3區(qū)
影響因子:2.1
審稿周期: 18 Weeks
中科院分區(qū):3區(qū)
影響因子:1
審稿周期: 12 Weeks
中科院分區(qū):3區(qū)
影響因子:1.3
審稿周期:
中科院分區(qū):3區(qū)
影響因子:1.9
審稿周期: 12 Weeks
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